第二百三十六章 赢麻(3 / 7)

想辞职，去林晓的手底下学习学习，虽然他都四十多岁了，比林晓大了二十多岁，不过达者为师嘛，而且在林晓这种顶级科学家手底下学习，也不丢人。

只不过想了想自己的家人，还有他在魔都贷款买的房子，他还是放弃了这个想法。

“好了，这个还得等三个小时，先去看看抛光吧。”

这时候，林晓的声音提醒了在场的人们。

众人都回过了神，意识到这件事情。

毕竟这个炉子还要烧三个小时，他们也总不能在这里干等三小时，于是他们便迅速前往了抛光过程的抛光机旁。

罗明看着抛光机，上一次来这里还是上一次。

那一次他看到了在新抛光盘加成之下，他们的抛光精度达到了4nm的程度，而这一次，他们又有了新的抛光液，根据林晓说的，这能够让他们的抛光精度提升到2nm的程度。

对此，他已经十分期待了。

也没有久等，因为之前存了一些未抛光的硅晶圆，所以这次他们可以将这些未抛光的硅晶圆放上去进行实验。

随着机器运转，抛光机的行星式抛光流程再次运作起来，两边也可以看到有液体的溢出，这些液体就是他们的新型抛光液，这种抛光液由硅粉和氢氧化钠组成，其中还有一些其他占比很小的物质，不过也能对抛光过程进行处理。

CMP抛光，指的是化学机械抛光，顾名思义，既有化学抛光，也有机械抛光，其中化学抛光就是由抛光液负责。

氢氧化钠的成分能够通过对晶圆的表面不平处进行反应，进而使其表面更加平坦，而硅粉就能够在摩擦中，继续将内部不平处进行逐渐消磨。

而在这个过程中，这两种物质所占比例就是一个关键问题了。

优秀的配比，对抛光效果来说也有着较大的提升。

而林晓从系统那里得到这种抛光液内部成分以及比例，无疑就属于一种十分优秀的比例，此外，它和磨盘材料也十分搭配，两相搭配，他们的抛光效率，完全可以达到一个极高的程度。

就这样，随着时间慢慢过去，第一批硅晶圆出来了，而后他们便迅速将这批硅晶圆拿到了激光干涉仪之下进行测量确定其表面精度。

没过多久，结果就出来了。

“表面平均精度都达到了2nm的程度！还有少部分达到了1nm！”

测量人员将这个振奋人心的消息宣布了出来，顿时间生产线车间中的许多人都欢呼了起